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股票代码:002819

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SZ002819

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东方集成邀您参加等离子工艺技术研讨会(上海)
2014-05-29
  20 June 2014, SIMIT, CAS, Shanghai
  2014年6月20日,中科院上海微系统研究所,上海


  Place : Lecture Hall , No.5 building, SIMIT, No.865, Changning Road, Shanghai
  具体地址:上海市长宁路865号,上海微系统研究所,5号楼报告厅

  Sponsors:
  SENTECH Instruments GmbH, BOJ, SIMIT
  主办方:
  德国SENTECH仪器有限公司,北京东方中科集成科技股份有限公司,上海微系统研究所

  Agenda 日程
TimeContent
09:00-09:30Welcome & Registration
09:30-10:00Welcome to SENTECH seminar
Dr. Bernd Gruska, SENTECH
10:00-10:30Deep Si etching processes and applications
Dr. Cay Pinnow, SENTECH
10:30-10:45ICP etching of III-V compound semiconductor
Dr. Wang Ning, IME, CAS, China
10:45-11:00Coffee break
11:00-11:30Deposition of oxides, nitrides, and carbides by PECVD
Dr. Cay Pinnow, SENTECH
11:30-12:00Applications in THz devices of ICPECVD
Dr. Sun Hao, SIMIT, CAS, China
12:00-13:30Lunch
13:30-14:00ALD Systems, processes and in-situ ellipsometry
Dr. Hassan Gargouri, SENTECH
14:00-14:30In situ monitoring of growth and etching processes
Dr. Bernd Gruska, SENTECH
14:30-15:00Coffee break
15:00-17:00Discussions & Visiting labs of SIMIT
17:00End of seminar


  Contact 联系人

陈辉13916693708chenh@oimec.com.cn
郭峰13810095500guofeng@oimec.com.cn
纪刚13466681386jigang@oimec.com.cn
张国伟18911548738zhanggw@oimec.com.cn
孙浩021-62511070-8945sh@mail.sim.ac.cn
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