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SENTECH SI 591-Nanomes 激光反射干涉式终点探测器,也可用于刻蚀深度测量

提供服务:半导体
产品名称:
激光反射干涉式终点探测器,也可用于刻蚀深度测量
产品型号:
SI 591-Nanomes
厂商名称:
SENTECH
产品属性:
选件
商品描述:
NanoMES提供在线、实时测量,测量干法刻蚀中刻蚀深度、刻蚀速率、膜厚。也提供终点探测功能,通过测量表面反射率和薄膜干涉来获得测量数据。
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